一種超精密、小面積的清洗系統(tǒng)；適用于關鍵的光纖和其他醫(yī)療、光學半導體芯片配件清洗。Co2產生并推進一種可調節(jié)的噴霧，噴霧中含有清潔干燥的空氣或含純凈的氮氣，以有效地清除表面的異物。取代或增強了傳統(tǒng)的溶劑輔助擦拭清洗技術，這種技術可以清洗關鍵表面上擴散、涂抹、脫落或重新沉積殘留物和顆粒。

1.設備優(yōu)勢

干燥加工處理。無水處理,清潔后的材料是干燥與潔凈的。

較好的清除任何殘留在光纖和其他組件的殘留物，用于清潔小的表面區(qū)域。

預防污染和清潔加工處理。利用先進的清洗工藝來減少在源頭環(huán)境的污染（能源、水源、化學肥料）；沒有廢料產生（失效的溶濟、沖洗水；過濾物、冷卻液）的清潔方式。非常適合細微部分的清洗。因粒子十分柔軟所以對清洗對象的損傷極小。

總結優(yōu)勢：節(jié)約費用、延長設備使用費用；干燥的清洗

過程；環(huán)境安全性高；高效、使用范圍廣。

2.功能

通過氣壓調節(jié)區(qū)調節(jié)輸冰氣壓，當按下不同的氣路按鍵時輸出不同氣路氣壓以及不同輸冰量。由干冰球撞擊要清潔的表面來去除污垢。另外在污垢和準備被零下78.5攝氏度的干冰清潔的物體之間會形成熱氣流，結果污垢會松動。同時，干冰在接觸到表面瞬間會轉化成氣態(tài)的二氧化碳，容積擴大到干冰的200倍以上。因此，被干冰滲透的污垢會逐漸去掉。在用噴射器進行噴射操作中，置于干冰容器上的振動器會確保干冰持續(xù)地滑動。

3.主要技術參數

4.外形尺寸圖